采用FMOC固相法合成，在N端最后一个是Cys，肽链其它位置都没有Cys，如今要在此Cys上进行修饰，不知该选用何种侧链保护基。以前做双硫键是用Trt，直接用I2氧化就OK了。不过现在只有一个Cys，选用Trt保护，用碘处理会不会得到想到的-SH呢？希望高手指点。另外我要修饰的部分需分几步进行，所以首先考虑在树脂上进行修饰后再裂解下来。

查了一下相关文献，说是采用Fmoc-Cys(StBu)-OH比较好一些，肽链接好后，用DTT进行脱保护，然后就可以进行相应的修饰了。只是这种保护氨基酸不太好买，而且比较贵，还有没有更好的办法呢？

看Fmoc-Cys(Trt)-OH在碘下面成双硫键的反应机理，偶有一个想法，就是直接用Trt做保护，用碘脱除后再直接进行修饰，不知道道理上行得通不。我要修饰上去的是苄基，所以考虑用氯化苄或溴化苄。因为碘脱Trt时会形成碘化物，个人认为是行得通的。

此思路是否恰当，大家都提一下意见哈