2017-05-03 11:59:29
你们做的溶出曲线能够拟合出N-W方程这样的关系吗?Noyes-Whitney方程被普遍用来表达不同因素对于溶出溶解速度的影响,无论是dC/dt=DS/(Vh)(Cs-C)形式还是其他形式, 我们都认为其速率与面积S是正相关的。我一直疑惑的地方也是关于这个“面积”。 我查阅了几篇相关文献,其中有的探讨的是制剂(如片剂)的溶出性能,说S是指制剂的表面积;另外一些探讨原料药(粉末或颗粒),则用S代表粒子表面积的相关概念:如,微粉化技术可以有效提高药物的dissolution rate这是普遍被认可的了,很多文献再阐述微粉化技术产生作用的原因时提到:粒径的减小会增大颗粒的表面积,进而通过Noyes-whitney方程说明其速率的增大,说S是制剂的表面积我是可以理解的, 我的疑惑就是,S能否代表粒子(粉末)表面积来进行原料药(粉末)的分析?引申一下,即:Noyes-Whitney能否用来表达粉末状原料药的溶出行为?此外,溶出曲线代表溶出行为,我想知道你们做的溶出曲线能够拟合出N-W方程这样的关系吗? |
我认为S代表的是溶出过程中原料的表面积,并且此表面积是动态的,并不是固定的,如果原料压成片,以完整的片剂在溶出的话,S就是整个片剂的表面积(可以参考特性溶出速率的测定方法,即固定了片剂的表面积),如果崩解成颗粒,则S是所有颗粒的表面积之和,并且此表面积随着溶出过程中进一步崩解而不断增加。对于我们一般的片剂(辅料和原料混合体系),S为崩解后原料与溶出介质接触的表面积(还有一部分被辅料遮挡),经过微粉化以后或者固体分散体系,原料本身的总的表面积变大,在混合粉末或颗粒中与溶出介质的接触表面积也相对提高,溶出变化。 |
个人认为S应该指的是真正溶出的主体,原料本身,而不是什么颗粒或制剂,说这个之前应该先了解下制剂比如片剂的溶出过程,对于难溶性药物溶出为限速步骤,过程大体为片剂崩解成大颗粒,大颗粒进一步崩解为细颗粒,最终药物溶出细颗粒中溶解,当然整个过程药物都在不断溶出。早期国内制剂说到的崩解限速往往是对于许多溶解性凑合的药物,但辅料崩解性较差如糊精,原料本身溶出速率问题不大,但片剂崩解成大颗粒速率较慢而影响溶出;如今普遍是真正的难溶性药物,辅料崩解行较好,溶出问题往往是最终的药物溶出,或一些颗粒崩解较慢或药物从中溶出困难。而N-W方程模型的各因素对应的可能更适合溶出的最后一步。 |
提问时间: | 2017-05-03 |
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